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2011韩国半导体光刻胶需求预计达258亿美元

发布时间:2020-07-21 19:01:51 阅读: 来源:净洗剂厂家

在半导体制程中,曝光制程非常重要,因此作为其核心材料的光刻胶(Photoresist)占较大的生产成本,在技术与产业方面的重要性也非常高。根据DisplayBank统计,2011年用于韩国国内半导体产业的光刻胶量约为25万~30万加仑,产值约达3,000亿韩元(约2.58亿美元)的规模。

本文引用地址:其中,用于韩国半导体产业的光刻胶中,KrF(KrFEximerLaser,248nm曝光)的市占率约达5成,而ArFImmersion(ArFEximerLaser,Wet制成,193nm曝光)与ArFDry(ArFEximerLaser,Dry制成,193nm曝光)的合计市占率约达25%;另外,高价位光刻胶ArFImmersion产品的年销售额,约达1,000亿韩元。

韩国的内存与半导体产业拥有全球领先的技术实力,因此光刻胶企业也非常重视韩国市场。供应韩国企业光刻胶的厂商有2家韩国厂商,包括东进化学、锦湖石油化工,另外有5家日本厂商,包括住友化学、TOK、信越、JSR、FFEM,以及收购罗门哈斯(RohmandHaas)的陶氏化学等。

其中,住友化学、TOK、信越、JSR及陶氏化学,在KrF以上等级的产品领域竞争非常激烈,韩国厂商锦湖石油化学对海力士(Hynix)半导体,供应大量的ArFDry产品以及部分ArFImmersion产品。东进化学虽在LCD用产业光刻胶的供给比例较高,但在半导体领域仍只供应KrF以下等级部分产品。

DisplayBank指出,内存与半导体领域的领导厂商三星电子(SamsungElectronics)与海力士,在技术、销售额、利润及市占率等方面,与日本及台湾厂商的差距越来越扩大,因而韩国市场成为光刻胶产业的重要市场。同时,未来在韩国光刻胶市场上各专业厂商之间的竞争也将会愈演愈烈。

另外,光刻胶除了用于半导体产业之外,也用于显示及LED等产业。其中,LCD产业2010年年平均使用量已超过870万公升,在总使用量中所占比例最大。但LCD产业使用的光刻胶相较于半导体产业仍属较低价产品,因此在供应半导体光刻胶的专业厂商,只有JSR与TOK供应LCD产业用的光刻胶产品,其他厂商则对供应LCD用光刻胶的意愿非常薄弱,而且因产业特性之故,新厂商参与的可能性也微乎其微,因此在未来仍会维持由3家厂商包括东进化学、AZEM、TOK寡占的市场格局。

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